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光刻胶(光刻胶的主要成分)

cpdjt V管理员 /2022-09-05 /5 评论 /172 阅读

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评论列表（有 5 条评论，172人围观）

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2022-06-24 回复

盖了半导体光刻工艺的所有步骤。此外，凭借在电子材料领域100多年的专业经验，默克目前为中国大陆100多家芯片制造企业供应着超过150余种材料产品，覆盖其晶圆加工的每一个环节。默克是一家领先的科技公司，专注于医药健康、生命科学和电子科技三大领域。全球有57,000多名员工服务于默克，通过创造更加愉悦和

任重道远V游客椅子

2022-06-24 回复

之一，其研发的溶剂产品涵盖了半导体光刻工艺的所有步骤。此外，凭借在电子材料领域100多年的专业经验，默克目前为中国大陆100多家芯片制造企业供应着超过150余种材料产品，覆盖其晶圆加工的每一个环节

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2022-06-24 回复

EMD Electronics”。默克在中国已经有80多年发展历史，目前有超过4,200名员工，并在北京、上海、香港、无锡、苏州和南通拥有20多个注册公司。

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2022-06-24 回复

的关键技术，而光刻胶去除剂则是决定图形化最终良率及可靠性的关键材料之一。默克此次推出的“AZ® 910 去除剂”基于不含有NMP(N-甲基吡咯烷酮)的新型特制化学配方，不仅可以快速溶解残留光刻胶，同时具备超高的经济性、出色的环保性

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2022-06-24 回复

。清洗工艺能因此能缩短近一半时间，同时延长相关材料和过滤设备的使用寿命，从而帮助芯片厂商降低总体成本。默克半导体材料事业部全球负责人Anand Nambiar表示：“这是一种同时具备了环保

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